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光學(xué)玻璃晶體的化學(xué)拋光

瀏覽次數(shù):3018 日期:2020-06-19 11:11:08

光學(xué)玻璃晶體的化學(xué)拋光是利用氫氟酸破壞玻璃表面,使原有的表層硅氧膜破壞,生產(chǎn)新的表面硅氧膜,使得玻璃得到很高的透過率且表面很光潔。目前,平板玻璃的拋光大多用化學(xué)拋光和機(jī)械拋光相結(jié)合的方法,也即化學(xué)機(jī)械拋光。

采用化學(xué)侵蝕拋光玻璃時(shí),除使用氫氟酸外,還要加入能使侵蝕生成物(硅氟化物)溶解的添加物。一般采用硫酸,硫酸具有酸性強(qiáng),沸點(diǎn)高、不易揮發(fā)、室溫下比較穩(wěn)定等特點(diǎn),故通常將硫酸加入氫氟酸中配成拋光液。另外,因氫氟酸易揮發(fā)。侵蝕性強(qiáng),故需要在密閉條件下進(jìn)行拋光,同時(shí)要對(duì)拋光過程中產(chǎn)生的廢氣、廢水進(jìn)行嚴(yán)格的處理。

影響化學(xué)拋光的因素如下:

1、玻璃的成分 一般情況下鈉鈣硅玻璃拋光比較困難,效果較差,含鉛玻璃化學(xué)拋光效果較好;

2、拋光液的成分  特別是拋光液中氫氟酸和硫酸的比例構(gòu)成,要根據(jù)玻璃的成分進(jìn)行調(diào)整。一般的鉛晶質(zhì)玻璃配方中:7%~10.5%的氫氟酸和58%~65%的硫酸。對(duì)鈉鈣硅玻璃來說,水、氫氟酸、硫酸的體積比比例為1:(1.62~2):(2.76~3)。

3、拋光溫度 溫度過低則反應(yīng)慢,溫度過高反應(yīng)劇烈,一般以40~50℃為宜。

4、處理時(shí)間 處理時(shí)間短,拋光作用不完全,處理時(shí)間長(zhǎng)則玻璃表面會(huì)有鹽類沉積物,因此具體的拋光時(shí)間,應(yīng)依據(jù)拋光液的培比、處理溫度等來決定。一般情況下采用短時(shí)間多次拋光的方法來處理,每次處理時(shí)間在6~15s左右,處理次數(shù)不超過10次,若處理次數(shù)過多易在表面形成波紋等缺陷,每次酸處理完后都應(yīng)將玻璃表面用水沖洗以去掉沉淀的鹽類。

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